• 公司新闻
• 行业动态
• 企业党建

05

2026

-

06

MEMS梳齿结构线宽齿距失准，白光干涉仪校准光刻制程修正尺寸...

MEMS 惯性器件性能高度依赖梳齿电容尺寸精度，光刻量产受曝光能量波动、晶圆平整度、掩模形变、显影速率差异影响，普遍产生梳齿线宽偏移、齿距不均、侧壁倾斜等尺寸失...

04

2026

-

06

USI 白光扫描：透明金属叠层结构微纳形貌失真原理溯源（US...

本文依据白光干涉仪官方技术手册、半导体微纳检测国标规范及《光学学报》《激光与光电子学进展》公开核心研究成果，聚焦半导体透明介质/金属基底叠层微纳结构，溯源USI...

04

2026

-

06

基于光学3D轮廓仪深度标定优化光伏激光划线与光电转换效率研究

摘要光伏、钙钛矿等薄膜光电器件激光划线深度偏差会诱发基底损伤、薄膜残留、断路等缺陷，直接制约器件光电转换效率提升。传统二维测量、人工抽检无法实现微纳划线深度精准...

04

2026

-

06

白光干涉仪（White Light Interferomet...

一、引言超薄薄膜、超光滑样品是半导体晶圆、精密光学元件、高能激光器件的核心基础材料，其表面存在的纳米级微划痕、局部凹陷、颗粒凸起、薄膜厚度不均等微观工艺缺陷，会...

• 共44页
• k8com官网
• 上一页
• 1
• 2
• 3
• 4
• 5
• 6
• 7
• 8
• 9
• 10
• ...
• 下一页
• 尾页